ISO 立方體專為日常系統(tǒng)檢查而設(shè)計。LINAC激光器和光場可以使用ISO立方體外部的雕刻標(biāo)記“調(diào)諧"到真正的輻射等中心。可以使用內(nèi)置射線標(biāo)記檢查光場和輻射場對準(zhǔn)。更重要的是，可以檢查OBI和EPID的等中心是否與處理光束的空間對齊和重合。
ISO 立方體包含一個的中心點基準(zhǔn)點和一個偏移目標(biāo)。偏移目標(biāo)用于通過定位目標(biāo)，移動確定的量并驗證偏移目標(biāo)是否已定位在等中心，來確保kV/MV成像產(chǎn)生的工作臺偏移坐標(biāo)準(zhǔn)確。中心基準(zhǔn)點和偏置目標(biāo)直徑為 6.35 mm，由陶瓷制成。外部加工有同心圓目標(biāo)，使用戶能夠客觀地評估所有設(shè)置錯誤，包括旋轉(zhuǎn)，并輕松地將模型與真實的輻射等心對齊。ISO 立方體的加工公差為 ± 0.02 mm。目標(biāo)定位精度±0.1毫米。
提供可選的光學(xué)目標(biāo)幀適配器，以簡單且可重復(fù)的方式將任何無框 SRS RF 或光學(xué)跟蹤目標(biāo)陣列機械地注冊到 ISO 立方體。用戶可以通過他們選擇的粘合劑或機械緊固件安裝目標(biāo)陣列。
有兩個平臺可用于 ISO 立方體。一個設(shè)計用于注冊沙發(fā)分度桿，并提供用于增量調(diào)整俯仰、橫滾和偏航的索引。第二個平臺提供調(diào)平支腿和嵌入式標(biāo)記，用于使用Iso Analyze軟件計算kV/MV像素尺寸。
Cirs 023等中心校準(zhǔn)模體特征：
快速且易于使用
的基準(zhǔn)點可在 EPID、kV 和 CBCT 成像中產(chǎn)生清晰的圖像
偏移基準(zhǔn)點，用于校正的準(zhǔn)確性
檢查 - 激光對準(zhǔn)
– 光場大小驗證
– kV 和 MV 成像儀重合
– CBCT過程精度
– 歐比精度
– 工作臺高度精度
– 輻射場/光場對準(zhǔn)
Cirs 023等中心校準(zhǔn)模體選配軟件：
ISO Analyze™ 圖像分析軟件與 ISO Cube™ Daily QA Phantom 和 ISO Base™ Align Platform 集成，通過分析 EPID 檢測器采集的 DICOM 圖像，實現(xiàn) LINAC 等中心的用戶友好質(zhì)量控制?？丶詣舆\行，分析ISO立方體™的圖像并量化大量評估參數(shù)。它允許用戶輕松地為每個前面的控件生成報告。
產(chǎn)品型號：
更新時間：2024-07-29
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